晶体管作为集成电路的物理基础，通过材料、工艺与设计理念的迭代，推动集成电路从单一器件向复杂系统进化。

一、技术演进的核心关联

1. 材料继承
   • 晶体管：早期使用锗材料，后转向硅基半导体。
   • 集成电路：延续硅基技术，并引入氮化镓等新材料优化性能。
2. 制造工艺升级

   发展阶段	晶体管技术贡献	集成电路应用实例
   1947-1958	点接触式晶体管发明	分立元件电路
   1959-1970	平面工艺突破	单片硅基集成电路诞生
   1971-至今	光刻与纳米技术发展	超大规模集成电路（VLSI）

二、设计逻辑的延续与突破

1. 功能集成化
   晶体管从单一放大功能，发展为集成电路中逻辑门、存储器等模块的协同单元。
2. 微型化驱动
   晶体管尺寸缩小（从厘米级到纳米级）直接促成集成电路的密度提升与功耗降低。

三、产业生态的协同发展

• 晶体管量产为集成电路提供标准化元件
• 集成电路需求反向推动晶体管工艺精度提升（如FinFET结构）