在cdr抠图过程中，位图遮罩与轮廓描摹功能在处理纯色背景时究竟存在怎样的差异呢？

原理差异

• 位图遮罩：位图遮罩是通过创建一个遮罩对象，将其覆盖在位图上，遮罩对象中不透明的部分会显示位图内容，透明部分则隐藏位图内容。在处理纯色背景时，通常是利用颜色的对比，将纯色背景部分设置为透明，从而实现抠图。
• 轮廓描摹：轮廓描摹是分析位图的颜色和形状信息，自动生成矢量图形。对于纯色背景，它会识别主体与背景的边界，将主体的轮廓转换为矢量路径。

操作难度

• 位图遮罩：操作相对复杂，需要手动调整遮罩的范围和透明度。如果纯色背景与主体颜色有相近部分，精准区分会比较困难，可能需要多次尝试和调整。
• 轮廓描摹：操作较为简单，只需选择合适的描摹模式，软件会自动处理。但对于一些细节较多或边缘不规则的主体，可能需要后期对生成的矢量图形进行微调。

效果差异

应用场景

• 位图遮罩：适用于需要保留位图细节，且对边缘处理要求不是特别高的情况，例如一些艺术风格的图片抠图。
• 轮廓描摹：更适合用于需要将位图转换为矢量图形，以便进行后续编辑和印刷的场景，如制作标志、插画等。